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產(chǎn)品列表 : "化學(xué)氣相沉積與原子層沉積前體"

Strontium hexafluoroacetylacetonate
Tetrakis(ethylmethylamino)zirconium(IV), 99% TEMAZ
  • 純度: 99%
  • CAS: 175923-04-3
  • MDL:
  • 產(chǎn)品編號: 40-1710
  • 分子式: Zr[N(CH3)(CH2CH3)]4
  • Strem
Zirconium(IV) t-butoxide, 98%
Zirconium(IV) t-butoxide (99.99%-Zr) PURATREM
  • 純度: (99.99%-Zr)
  • CAS: 2081-12-1
  • MDL: MFCD00075085
  • 產(chǎn)品編號: 40-1750
  • 分子式: Zr(OC4H9)4
  • Strem
Zirconium(IV) hexafluoroacetylacetonate
Tetrakis(dimethylamino)zirconium(IV), 99% TDMAZ
Tetrakis(dimethylamino)zirconium(IV), 98%  (99.99%-Zr) PURATREM TDMAZ
  • 純度: 98% (99.99%-Zr)
  • CAS: 19756-04-8
  • MDL:
  • 產(chǎn)品編號: 40-4115
  • 分子式: Zr[N(CH3)2]4
  • Strem
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