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產(chǎn)品列表 : "化學(xué)氣相沉積與原子層沉積前體"

Hafnium(IV) t-butoxide (99.9%-Hf, <1.5%-Zr)
  • 純度: (99.9%-Hf)
  • CAS: 2172-02-3
  • MDL: MFCD00070458
  • 產(chǎn)品編號: 72-5800
  • 分子式: Hf[OC(CH3)3]4
  • Strem
Hafnium(IV) ethoxide, 99%
Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium, 99% (99.99+%-Hf, <0.15% Zr) TEMAH PURATREM
  • 純度: (99.99+%-Hf, <0.15% Zr)
  • CAS: 352535-01-4
  • MDL:
  • 產(chǎn)品編號: 72-7720
  • 分子式: Hf[N(CH3)(CH2CH3)]4
  • Strem
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